C014_MACROCHIP_08
Roma, Italia Competition Phase 2008
Institutional
Padiglione italia all’Esposizione Universale di Shanghai 2010.

Il padiglione si struttura a partire da due elementi fondamentali:lo shelter-copertura tenuto in sospensione da una teoria di colonne (al centro) e pilastri (sui due lati);i muri diaframma che sono disposti ad articolare lo spazio e sono costituiti da una struttura lineare in acciaio interna e un sistema di lastre di varie dimensioni collocate a secco le une sulle altre con un sistema alternato di pieni e vuoti.
I muri-diaframma saranno costruiti da diverse tipologie di materiali da quelli più tradizionali e tettonici (le pietre d’Italia dal travertino alla pietra lavica, dal rosso di Verona al giallo di Siena,dal marmo venato di Carrara al verde alpi), alle tecnologie più avanzate. A questi muri si affiancano delle scatole sovrapposte realizzate con materiali leggeri e trasparenti che ospitano le attività più specialistiche.

Progetto: Marco Navarra_NOWA
Gruppo di progettazione: Dario Fortunato Pappalardo, Salvatore Interlandi_NOWA
Collaboratori: Raffaello Buccheri, Celeste Greco
Committente: Commissariato Generale del Governo per l’Esposizione Universale di Shanghai 2010
Dati dimensionale: 30.000 mq